Процесс мощной импульсной лазерной очистки зависит от характеристик световых импульсов, генерируемых волоконным лазером, и основан на фотофизической реакции, образующейся при взаимодействии луча высокой интенсивности, короткоимпульсного лазера и загрязненного слоя. .
Физические принципы можно резюмировать следующим образом:
(1) Луч, излучаемый лазером, поглощается загрязненным слоем на обрабатываемой поверхности;
(2) Поглощение большой энергии с образованием быстро расширяющейся плазмы (сильно ионизированного нестабильного газа), что приводит к возникновению ударных волн;
(3) Ударная волна приводит к фрагментации и отторжению загрязняющего вещества;
4) Ширина светового импульса должна быть достаточно короткой, чтобы избежать накопления тепла, разрушающего обрабатываемую поверхность;
5) Плазма генерируется на поверхности металла при наличии на поверхности оксидов.
